半導體氣體裝置是半導體制造的核心設備集群，包括氣體存儲鋼瓶、減壓閥、氣體分配柜（GDC）、流量控制器（MFC）等，負責半導體制程中氣體的存儲、分配、精準輸送，其氣體凈化水平直接決定芯片良率，需滿足 ppb 級甚至 ppt 級的純度要求。

1、為何需要使用過濾器？

半導體制程對污染物極度敏感，氣體中的微粒、金屬離子、水分等雜質會造成光刻缺陷、電路短路、器件失效，尤其是 7nm 以下先進制程，對氣體純度要求更為嚴苛；過濾器需在氣體進入制程設備前進行深度凈化，是保障半導體氣體裝置穩定運行的關鍵部件。

2、過濾器介紹

恒歌 TF 系列半導體氣體裝置專用過濾器，專為半導體領域量身打造，聚焦超純氣體凈化需求。采用 UHP 超純過濾技術，316L 不銹鋼無死角結構，避免污染物殘留，安裝簡便且密封性能優異，可直接安裝于氣體裝置的減壓閥后、MFC 前端，精準清除 ppb 級雜質，保障芯片制程純凈度。

3、 過濾器特點

? 316L 不銹鋼全結構，無死體積設計，避免二次污染

? 超高顆粒攔截率，0.003μm 微粒攔截效率≥99.9999%，達到 ppb 級凈化水平

? 耐高溫（≤200℃）、耐高壓（≤15MPa），適配半導體氣體裝置工況

? 低壓力損耗（≤0.03MPa），不影響流量控制器精準控制

? 100% 完整性測試 + 氨氣檢漏，滿足半導體潔凈室 Class 1 環境要求

? 提供 F 直通型 / T 型 / W 型一體式結構，適配氣體裝置不同安裝位置

4、產品應用

半導體前道光刻 / 蝕刻 / 沉積工藝氣體裝置、半導體后道封裝測試氣體裝置、氣體分配柜（GDC）凈化過濾、流量控制器（MFC）前端過濾、半導體氣體鋼瓶出口凈化

5、常見問答

Q：該過濾器能達到 ppt 級凈化要求嗎？

A：支持！高端型號可實現 ppt 級雜質攔截，完全滿足 7nm 以下先進制程的氣體純度需求。

Q：能否適配半導體氣體裝置的高壓力場景？

A：完全適配！最高耐高壓可達 15MPa，覆蓋絕大多數半導體氣體裝置的工作壓力范圍。

Q：濾芯是否可重復使用？

A：過濾器本體可重復使用，濾芯為消耗品，建議根據壓差變化或使用周期定期更換。

Q：與普通過濾器相比，核心優勢是什么？

A：專為半導體場景設計，無二次污染風險、凈化精度更高（ppb 級）、密封性能更優（符合半導體安全標準），且通過 SEMI 認證，適配潔凈室環境。

6. 選型指引

如果您不確定適配的半導體氣體裝置類型、過濾精度或安裝接口，歡迎聯系我們，結合您的制程需求提供定制化選型方案！